一、产品用途
对于石墨烯生长工艺非常合适。制作硅片可在片状或类似形状样品表面沉积SiOx、SiNx、非晶硅、微晶硅、纳米硅、SiC、类金刚石等多种薄膜,
对于离子注入后的贵金属,各种黄金首饰,金刚石等材料的抗弯强度和磨耗比也有了较大幅度的提高。并可沉积p型、n型掺杂薄膜。沉积的薄膜具有良好均匀性、致密性、粘附性、绝缘性。
适用于集成电路与半导体研发。
也可做:于稀土制备、电子照明、晶体退火、生物陶瓷、电子陶瓷、特种合金、磁性材料、精密铸造、金属热处理等行业进行真空烧结、气氛保护烧结、CVD实验、物质成分测量等场合使用。
二、主要功能和特点
1.此款设备配有Plasma实现等离子增强,滑轨式设计在操作时可将实验需要的恒定高温直接推到样品处,使样品能得到一个快速的升温速度,
同样也可将高温的管式炉直接推离样品处,使样品直接暴露在室温环境下,得到快速的降温速率。
2.利用辉光放电产生等离子体电子激活气相;
3.提高了气相反应的沉积速率、成膜质量;
4.可通过调整射频电源频率来控制沉积速率;
5.能广泛用于:石墨烯、SiOx、SiNx、CNx、TiCxNy等薄膜的生长。
6.常用气体:氮气,氩气,氢气,甲烷四种气体混合使用。比例咨询专家。
三、质量保证
终身保修, 质保期1年,相关耗材除外,如加热元件易耗材等。(如需延长保质期请与销售联系)
四、安全防护
超温报警、断偶提示、过流保护、漏电保护。当需要开启炉体观察物料或加速降温时,为保证使用人员的安全,会自动切断电源。
五、质量保障
公司有完整的质量奖罚制度,设有专业处理质量问题,服务不到位问题接受投诉部门,设备在完成后入库经过严格检测合格入库,出货前经过严格检测各个零部件,仪表完全合格方可出厂。
设备的安全性和稳定性都是非常到位的,产品的制造和检测严格按相关标准执行,并有质量记录可查;每台设备都有制造编号,并建立用户档案。
六、售后
1.物流送货上门服务;
2.高效率服务:当设备不能正常使用时,请及时联系我们,我们会在10分钟内响应;2小时内提供应急解决方案;24小时内安排专业人员上门服务;
3.免费更换维修服务:本产品提供一年免费保修服务(易损件除外);
4.定期回访服务:提供定期电话回访或上门回访服务;
5.免费更新服务:我们免费提供软件的升级更新服务
6.保证配件供应:保证设备配件及配套产品的供应;
七、交货期
按合同约定执行;如客户有特殊原因需提前交货的,我公司可特别组织生产,力争满足用户需求。