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艾博GVC-2000磁控离子溅射仪

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艾博
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1.技术参数:

输入电压

AC220V±10%,50Hz

工作电压

DC2400V

最大功率(主机与机械泵)

500W

工作原理

磁控溅射

可选靶材

金、铂、银、铜、铝、铅等常用金属

真空泵

两级直联旋片式真空泵 1L/s

真空腔

φ128×130mm

样品杯

φ90×1 / φ25×4 / φ15×6

整机尺寸(长×宽×高)

424×271×255(mm)

重量(主机)

11 kg

工作环境

温度 5~40℃,湿度<60%

存储环境

温度-10~60℃,湿度<80%

工作气体

Air / Ar

保护功能

过流、真空双保护

2.效果图:

2.1 陶瓷滤膜铂靶10万倍( SU5500 ):

2.2 喷金样品电镜观测图对比

GVC-2000: 样品形貌真实完整:

其他设备喷金的效果图(热损伤严重):

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