ISC150离子溅射仪升级版本,采用无油隔膜泵+分子泵获得高真空环境,保证样品喷金处理过程不会产生二次污染。特别适用于追求高分辨率FE-SEM样品的喷金喷铂,EDS和EBSD喷碳,光电薄膜制备,电极材料制备及其他金属镀膜用途。
本离子溅射仪主要的特点就是“无油,高真空”,制备薄膜纯度更高,薄膜质量更优;并且能够在超净间内使用。
另外附加旋转/偏转选配模块,实现3D结构样品及空隙结构样品均匀镀膜喷金导电。
ISC150离子溅射仪升级版本,采用无油隔膜泵+分子泵获得高真空环境,保证样品喷金处理过程不会产生二次污染。特别适用于追求高分辨率FE-SEM样品的喷金喷铂,EDS和EBSD喷碳,光电薄膜制备,电极材料制备及其他金属镀膜用途。
本离子溅射仪主要的特点就是“无油,高真空”,制备薄膜纯度更高,薄膜质量更优;并且能够在超净间内使用。
另外附加旋转/偏转选配模块,实现3D结构样品及空隙结构样品均匀镀膜喷金导电。
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