应用材料范围：
硅| 化合物半导体 | 氧化物| 宽带隙材料| 钙钛矿 | 外延层
半导体质量的可视化是通过广泛应用的先进微波技术实现的。关键的电子半导体参数的无接触的快速图形化检测，像少数载流子寿命、光导率、电阻率和缺陷信息等参数的测量，都可以通过无与伦比的空间分辨率、灵敏度和测量速度的图形化方式来展现。这种方法为半导体生产和研究提供了一个广泛的已有和新的应用领域。
MDP系列产品涵盖了广泛的应用范围，从高产量、自动化生产的易集成OEM模块到研究和高灵活性的故障排除工具，MDP始终专注于各种解决方案。可靠和耐用的设计，再加上新电子可能性的集成，使MDP系列产品成为未来高速非接触式电子半导体特性检测的完美选择。
MDPmap 单晶和多晶片的少数载流子寿命测试设备产品性能介绍：
● 灵敏度: 对外延层监控和不可见缺陷检测，
具有可视化测试的高分辨率
● 测试速度: < 5 minutes，6英寸硅片, 1mm分辨率
● 寿命测试范围: 20ns到几ms
● 玷污测试: 产生于坩埚和生产设备中的金属沾污（Fe）
● 测试能力: 从切割的晶元片到所有工艺中的样品
● 灵活性: 允许外部激发光与测试模块进行耦合
● 可靠性: 模块化紧凑型台式检测设备，使用时间 > 99%
● 重复性: > 99.5%
● 电阻率: 无需时常校准的电阻率面扫描
应用方向：
● 半导体材料少子寿命
● 铁浓度测定
● 缺陷浓度测试
● 硼氧浓度测试
● 受注入浓影响的测试
氧化物钝化CZ-Si的寿命 生长的多晶硅的寿命图
a. 铁浓度图 b. 反射图
c. 硼氧相对浓度图 d.电阻率图
配置选项
● 光斑尺寸可调
● 电阻率测试（晶圆片）
● 参考晶圆
● 方块电阻
● 背景光/偏置光选项
● 反射率测试(MDP)
● 用于光伏的LBIC
● BiasMDP
● Si晶圆片中的内外铁浓度分布图
● 集成的加热台
● 多种可选的激发光源
