仪器简介：

此系统可以配置多种沉积方式(预留各种功能接口),高度灵活,非常适合多种沉积模式的科研. 

高真空条件沉积模式（使用机械泵+分子泵，或冷凝泵）。多种组合沉积模式，同一腔体实现多种功能沉积方式，沉积源模式有:

磁控溅射源Sputter source

电子束蒸发E-beam Sources

K-cell蒸发

热蒸发Thermal sources

氧化物源Oxide sources

此系统高度灵活，软件操作方便，专业为研究机构沉积超纯度薄膜，真正的高真空沉积系统。

The  System is designed to be a highly flexible system for thin-film research in ultra pure conditions. The system can be configured to be true-UHV and allows for multiple deposition component options. 

感谢中科院上海应用物理研究所上海光源同步实验部用此设备，为广大专业研究人员提供服务！！

上海光源同步实验部配置的是磁控溅射（直流和射频均有）和电子束蒸发的组合功能，膜厚均匀性(镀膜500纳米左右厚度)均达到<3%，这种组合系统极大地扩展了沉积功能，性能价格比超高，是研究人员的有力工具！！

使用此系统的主要用户还有：中国计量院，吉林大学，中国科技大学，中北大学等

技术参数：

顶部法兰: 12”

Radial ports：4 x NW100CF

沉积接口: 5 x NW100CF, 4 x NW35CF

分子泵: 300ls , 500 ls options

样品操作: Quick-open top-lid.

极限真空: <5x 10E-10 (24小时烘烤)

机柜: Low footprint frame on transport casters

样品台操控: Rotation, heating, bias

样品操作: Load-Lock （可选）

Sample size样品尺寸: 1”, 2”, 3”, 4” ，大到8”，12”等

膜厚监控: QCM, Ellipsometry

烘烤: Internal or jacket

全自动软件操作，方便简单：Automation Touch screen pump down and process automation

系统尺寸:

Width: 1.5m

Height: 1.6m

Length (standard): 1.3m

Length: (with Loadlock): 2.0m

主要特点：

Top-loading chamber (500mm直径)

超高真空匹配接口

多种沉积源模式接口

Analysis, load-lock and viewing ports

多种样品夹具， 样品台可旋转，加热/冷却，DC/RF偏压 

多种沉积源模式:包括 high-rate e-beam, low-rate (high accuracy) e-beam, DC and RF sputtering, thermal, K-cell,oxide sources.