ISC150T桌面型磁控溅射仪采用无油隔膜泵+分子泵获得高真空环境,保证样品喷金处理过程不会产生二次污染。特别适用于追求高分辨率FE-SEM样品的喷金喷铂,EDS和EBSD喷碳,光电薄膜制备,电极材料制备及其他金属镀膜用途。
本离子溅射仪主要的特点就是“无油,高真空”,制备薄膜纯度更高,薄膜质量更优;并且能够在超净间内使用。
另外附加旋转/偏转样品台选配件,具有公转+自转+偏转行星式样品台,针对3D结构及多孔隙结构样品多角度均匀喷镀导电层。
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