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摩方精密BMF-微纳3D打印机-nanoArch® S130

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摩方材料
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nanoArchR S130 系统简介

光学精度:2μm;

打印幅面:50×50mm;

极限微尺度增材制造设备。

系统性能

光源:UV-LED(405nm)

打印材料:光敏树脂

光学精度:2μm

打印层厚:5~20μm

打印样品尺寸:

模式1:单投影模式:3.84(L)×2.16mm(W)×10mm(H)

模式2:拼接模式:38.4mm(L)×21.6mm(W)×10mm(H)

模式3:重复阵列模式:50mm(L)×50mm(W)×10mm(H)

打印文件格式:STL

系统外形尺寸:1720mm(L)×750mm(W)×1820mm(H)

重量:550kg

电气要求:220~240V AC,50/60HZ,2KW

设备特点优势

超高精度(XY打印精度高达2μm)

低层厚(5μm~20μm的打印层厚效果对比)

微尺度打印能力

光学监控系统,自动对焦功能

配置气浮平台,提高打印质量

优良的光源稳定性

配套功能强大的打印软件、切片软件

应用案例

微型弹簧阵列

微点阵

毛细管网状结构

类巴基球结构

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