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摩方精密BMF-光固化3D打印机(25μm)- nanoArch® S140

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摩方材料
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nanoArchR S140系统简介

光学精度:10μm;

打印幅面:94×52mm;

超高精度大幅面增材制造设备。

系统性能

光源:UV-LED(405nm)

打印材料:光敏树脂

光学精度:10μm

打印层厚:10~40μm

打印样品尺寸:

模式1:单投影模式:19.2mm(L)×10.8mm(W)×45mm(H)

模式2:拼接模式:94mm(L)×52mm(W)×45mm(H)

模式3:重复阵列模式:94mm(L)×52mm(W)×45mm(H)

打印文件格式:STL

系统外形尺寸:1000mm(L)×700mm(W)×1600mm(H)

机器外形尺寸:650mm(L)×650mm(W)×750mm(H)

重量:245kg

电气要求:220~240V AC,50/60HZ,2KW

系统特点

超高精度(光学精度高达10μm)

低层厚(10μm~40μm的打印层厚效果对比)

微尺度打印能力

光学监控系统,自动对焦功能

优良的光源稳定性

配套功能强大的打印软件、切片软件

应用案例

跨尺度微点阵结构

倾斜微针结构

乳液生成器

140样件

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