电镜原位等离子清洗源RPS50概述
RPS50 SEM扫描电镜清洗仪适用于SEM或FIB等电镜腔体内碳氢化合物（有机污染物）的清洗。采用远程ICP 射频离子源清洗，高效、低等离子体轰击损伤。核心部件采用国际一线品牌，保证设备具有优异的质量与稳定可靠性。标配一路清洗气体流量控制器。触摸屏控制，即插即用。
现象描述：
样品在电镜中长时间成像，或进行EDX成分分析过程中，可能会在测试区域形成“黑色方框”，这通常是由聚合物碳沉积引起。
成因分析：
当高能电子撞击样品表面时，它们产生大量低能二次电子（SE）。SE由于其较低的速度而与环境污染物气体分子具有高得多的相互作用面。它们分解有机污染，并在成像区域周围造成“碳沉积”（碳氢化合物或烃）。当表面被薄层烃覆盖时，二次电子产率将降低。
负面影响：
由于积碳影响，电子暴光区域将比周围的未曝光区域更暗，减少了电子显微镜图像中的材料对比度。研究表明，导电性越好，二次电子产额越高的样品，其发生碳沉积也越快。原因在于，对于这类观察样品，表面碰撞出SE越多，所以导致相互作用在表面生成的烃也越多越快。甚至随碳积影响，表面会累积电荷导致无法清晰成像。更有甚者，碳氢化合物污染严重的时候，可能会导致电子光学成像部件及探测器等污染，使电子束及成像漂移。
电镜原位等离子清洗源RPS50清洗原理
RF射频离子源通入氧气后产生的等离子体被电磁场束缚于离子源内部， O活性自由基与SEM腔室内碳氢化合物反应生成CO2，CO及H2O等被真空机组抽走，最终实现SEM腔室/样品积碳清洗之目的，同时提高SEM成像分辨率及衬度，缩短电镜抽真空时间。
电镜原位等离子清洗源RPS50清洗效果
